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光電催化中,光生電荷從電極內部遷移至表面,跨過固/液界面進入溶液參與反應,是決定整體效率的關鍵步驟。電化學阻抗譜(EIS)可在工作條件下解析電荷在體相、空間電荷層及表面/溶液界面的傳輸與復合,是研究界面電荷轉移的有力工具。

EIS通過在電極上施加小振幅交流電壓(通常5-10mV),測量不同頻率下的阻抗響應。頻率范圍通常從10?Hz到10?2Hz,涵蓋從電荷傳輸(高頻)到擴散過程(低頻)的完整時間尺度。
光電極的典型等效電路包括:
Rs:溶液電阻(高頻截距)。
Rct:界面電荷轉移電阻(中頻弧直徑),反映電荷從電極表面轉移至電解液的難易程度。
Cdl:雙電層電容(與Rct并聯)。
Rbulk:體相電阻(與Cbulk并聯),反映載流子在電極內部的傳輸。
W:Warburg擴散阻抗(低頻斜線),反映反應物在溶液中的擴散。
光照下,Rct通常顯著降低,表明光生載流子促進了界面電荷轉移。
在空間電荷區,半導體/電解液界面的電容(C)與電位(E)的關系遵循Mott-Schottky方程。通過測量不同電位下的電容,繪制1/C2-E曲線:
斜率為正→n型半導體;斜率為負→p型半導體。
截距→平帶電位(對應于導帶/價帶位置)。
斜率→載流子密度。
在BiVO?光陽極上負載Co-Pi助催化劑后,EIS顯示Rct從2500Ω降至800Ω(1.23V vs RHE),表明界面電荷轉移顯著加速。Mott-Schottky分析顯示平帶電位負移0.1V,有利于空穴向表面遷移。
北京中教金源科技有限公司的光電化學測試平臺,集成電化學工作站和光源系統,支持EIS、Mott-Schottky等多種測試模式。